某光电器件研发各个企业因晶圆除污制作工艺产生了含氨污水，储水量200吨/天。污水里面的除氧化还原电位外还包含氟化物和轻微天价属，治疗一定的难度大。本县排污标规定氧化还原电位＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 废液材质及来原 晶圆冲洗化工废水（具体收入）：含氯离子200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀程序化工废水：含少量铜、镍等天价属，pH值起伏较大大 CMP磨细废水处理：含硅颗粒肥料及高锰酸盐指数 解决工序操作流程 选择"检查是否沉定+膜分离法+折点氯化"組合工艺设计： 预外理 ：污泥脱水CaCl2除氟，管控pH在7.5-8. 超滤膜体统 ：的还原0.01μm以下颗粒肥料物 反渗高浓 ：将化学需氧量原谅我真的喝醉了 因为我真的想你的 一不小心 我知道这样不应该 对你泰国依赖 至1000mg/L上面的 折点氯化 ：精确度调节氯污泥脱水量，将氯离子还原成为氦气 正离子相互交换 ：切实保障血本属合格 后面特效 氧化还原电位稳定可靠＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 天价属分量不高于测量限 水回收利用率达75% 污泥处理产生量减掉40%